實(shí)現(xiàn)PDP用世界*大基板(42英寸16面)均勻曝光的近接曝光機(jī)。

特長(zhǎng)：

支撐高精度的獨(dú)自技術(shù) 
<光學(xué)間隙傳感器> 在非接觸的條件下,高速度和高精度地設(shè)定近接間隙。
<高速圖像處理技術(shù)> 掩膜以及掩膜與基板的高精度對(duì)位。
穩(wěn)定搬送 
直立配置掩膜臺(tái)和基板臺(tái),不需要補(bǔ)正因掩膜和掩膜臺(tái)以及基板臺(tái)的自身重量而造成的彎曲變形。
無(wú)塵措施 
在無(wú)塵化要求更加嚴(yán)格的CF用曝光裝置等的經(jīng)驗(yàn)和設(shè)計(jì)的基礎(chǔ)上,采取了減少驅(qū)動(dòng)部微粒子發(fā)生及考慮到氣流的無(wú)塵對(duì)策。

1. 能夠進(jìn)行大型基板的**一次性曝光。
2. 在曝光面上掩膜與基板為垂直構(gòu)造，不需要補(bǔ)正自重形成的彎曲變形。
3. 使用本公司硏發(fā)的非接觸光學(xué)間隙傳感器,能夠高速度和高精度地設(shè)定掩膜與基板間的近接間隙。
4. 使用非接觸邊緣傳感器,能夠?qū)暹M(jìn)行高精度的預(yù)對(duì)位。
5. 利用獨(dú)自的高速圖像處理技術(shù),能夠?qū)ρ谀ひ约把谀づc基板的相對(duì)位置進(jìn)行高精度的對(duì)位。
6. 采用低傾斜角的光學(xué)系統(tǒng),改善了轉(zhuǎn)印精度。
7. 利用獨(dú)自的鏡面光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì),實(shí)現(xiàn)**且均勻的平行光照射。
8. 本體與光源部完全分離的構(gòu)造,降低了對(duì)本體部的熱量影響。