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主營(yíng)產(chǎn)品：
SMT設(shè)備，物料運(yùn)輸，切削工具，作業(yè)工具，化學(xué)產(chǎn)品，測(cè)量?jī)x器，供應(yīng)器材，環(huán)境設(shè)備。
（SAKAGUCHI坂口電熱）（NIPPON MUKI日本無(wú)機(jī)）（SUIDEN瑞電）（IMAO今尾）（SGK昭和技研）
(愛(ài)安得AND)(OSAWA大澤)
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產(chǎn)品詳情
簡(jiǎn)單介紹：
MUM系列，MEMS用曝光裝置，日本曝光裝置，DNK大日本科研DSLY0505
MUM系列，MEMS用曝光裝置，日本曝光裝置，DNK大日本科研DSLY0505
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詳情介紹：
MUM系列，MEMS用曝光裝置，日本曝光裝置，DNK大日本科研DSLY0505
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在曝光過(guò)程中，通過(guò)移動(dòng)掩膜來(lái)控制光刻膠表面的曝光能量分布。能夠制作有任意曲面及傾斜的三維微細(xì)構(gòu)造體。
特點(diǎn)：
采用獨(dú)自的鏡面?鏡頭光學(xué)系統(tǒng),實(shí)現(xiàn)**均勻的照射。
配備有可設(shè)定非接觸?面內(nèi)均一間隙的間隙傳感器和對(duì)應(yīng)多層曝光的顯微鏡、X?Y?θ軸對(duì)位臺(tái)的對(duì)位系統(tǒng)。
采用Moving UV mask法(使用Piezo Positioning Stage,使掩膜在曝光中微細(xì)移動(dòng))能夠控制厚膜光刻膠的側(cè)壁傾斜角度,形成三維微細(xì)構(gòu)造體。
| MUM系列 | ||
| 掩膜尺寸 | Max 9" x 9" x t3.0 mm | |
| 基板尺寸 | Max Φ8"(Wafer) | |
| 光源 | 超高壓水銀燈 ：500W or 1kW | |
| 外觀尺寸及重量 | 本體尺寸 | W2120 x D1305 x H1850 mm |
| 本體重量 | 640kg | |
※基板尺寸和水銀燈瓦數(shù)及特殊規(guī)格可商洽
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